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    不管是LCD，還是OLED，都與TFT技術(shù)有著密切的聯(lián)系，所以TFT驅(qū)動(dòng)技術(shù)是顯示技術(shù)的基礎(chǔ)。

    新一代顯示正在往大尺寸、高分辨率、快速響應(yīng)速度、高對(duì)比度、柔性和超薄方向發(fā)展，這就對(duì)TFT技術(shù)提出了更高的要求。目前，TFT有a-Si、Oxide和LTPS三種制備工藝流程，其中Oxide TFT作為新一代TFT技術(shù)，具有可大面積制備、抗彎折特性好、成本低、容易集成等優(yōu)勢(shì)，具有廣闊的應(yīng)用前景。

    但是傳統(tǒng)的IGZO材料體系為國(guó)外發(fā)明，國(guó)內(nèi)不掌握專利，而且其遷移率偏低，穩(wěn)定性有待提升。華南理工大學(xué)教授彭俊彪說(shuō)：“我們?cè)趽诫s稀土的IZO材料體系方面取得了突破，開發(fā)了基于鑭系稀土(Ln)的新型IZO靶材(Ln-IZO)配方。Ln-IZO TFT綜合性能可以滿足驅(qū)動(dòng)AMOLED的要求�！�

    據(jù)了解，華南理工大學(xué)自主研發(fā)的Ln-IZO TFT技術(shù)，遷移率可達(dá)40cm2/Vs，功耗之低也可以與LTPS TFT相比擬。此外，華南理工大學(xué)在柔性AMOLED顯示上取得較大進(jìn)展，提高了使用壽命。

    大尺寸OLED也一直是個(gè)難點(diǎn)。彭俊彪說(shuō)，從印刷顯示技術(shù)來(lái)看，有沒有可能從TFT到OLED全部用印刷工藝來(lái)做?這是一個(gè)新的發(fā)展趨勢(shì)，也是一個(gè)新的挑戰(zhàn)，需要進(jìn)行一些探索。其在OLED方面做過(guò)很多的嘗試，早在2005年就采用印刷的方法做OLED，華南理工大學(xué)用的一些材料就可以實(shí)現(xiàn)高清的輸入。

    在OLED上用噴墨打印的技術(shù)，墨水非常關(guān)鍵，因?yàn)槿绻麏A層式的結(jié)果有針孔存在，顯示的性能、穩(wěn)定性等就無(wú)法保證，所以把薄膜做均勻的工藝顯得尤為重要。為了解決這個(gè)問(wèn)題，彭俊彪認(rèn)為，可以從三個(gè)方面進(jìn)行努力，第一是從結(jié)構(gòu)上調(diào)整發(fā)光材料，第二是控制好配置，第三是控制好基板界面。

    目前，其把像素做成條狀結(jié)構(gòu)，一方面提高了打印效果，另一方面提高了良品率。通過(guò)多方面的工藝調(diào)整以及襯底表面處理，華南理工大學(xué)現(xiàn)在可以做到160PPI。但是如果要加上TFT，AMOLED用噴墨打印的方法做，現(xiàn)在看起來(lái)還有些問(wèn)題。彭俊彪說(shuō)：“這與墨水的材料有關(guān)。我們現(xiàn)在的材料體系主要做的是藍(lán)光，因?yàn)樗{(lán)光和紅光雖然蒸鍍材料很多，但能用在噴墨打印上還是一個(gè)挑戰(zhàn)，所以在材料體系上還需要改進(jìn)。”